垂直显影/蚀刻/去膜

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垂直线——显影蚀刻去膜

迈达微Mindway品牌，以显影、蚀刻、去膜为核心的垂直湿法设备，广泛运用于电子制造图形转移的核心关键制程，赢得了客户认可及好评，为客户产品结构升级提供了优良的设备解决方案。

产品视频展示

应用领域

IC载板、PCB、玻璃基板/玻璃载板、半导体先进封装、显示面板、引线框架/金属蚀刻等

特点和优势

1.自主研发制造3μm/3μm线宽线距
2.非接触传动高良率
3.模块化设计，便于性能升级和扩展，满足客户定制化需求
4.一键保养，便于操作，提升安全性
5.特殊夹点，满足厚薄板及玻璃基板
6.压力、显影和蚀刻均匀性高于96%

主要技术指标

系列产品